摘要
半導體化學氣相沈積( Chemical Vapor Deposition, CVD)製程中，氣體及化學品之用量極為頻繁，形成危害的狀況亦多數來自氣體及化學品之洩漏問題，瞭解於CVD製程中氣體及化學品之使用與操作情形，透過半導體製程安全衛生問題的探討，可以清楚知道在製程中使用的材料設備可能發生的危險效應，以及整個流程中各原料和生成物及廢棄之固、液、氣相間可能產生的反應，並有助於製程安全評估管理事宜之進行。
被引用紀錄
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延伸閱讀
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