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  • 期刊

(√19×√19) R23.4°-Ge/Pt (111)表面合金的製備及其結構分析

摘要


有序排列的(√19×√19)R23.4°-Ge/Pt(111)表面合金可藉由蒸鍍一個原子層數量(one-monolayer, 1-ML)的Ge原子沈積在室溫的Pt (111)基材後,再於900-1200K的溫度範圍內退火而製備得到。此有序結構可經由LEED觀察到,並藉由STM來確認。其局部的結構和形成合金的過程可利用XPD及ALISS來研究。XPS的結果顯示,在900K時沈積的Ge原子與Pt形成表面合金。XPD和ALISS的結果確定Ge原子取代部份的表層Pt原子而形成有序排列的表面合金,而此表面合金只存在最外層。多餘的Ge原子則會擴散深入基材的內部。形成表面合金後的Ge原子,其位置非常接近被取代的Pt原子原來的位置,並無特別凸出或凹進表面。TPD的結果顯示,不論是CO或NO,其吸附在Ge/Pt (111)表面合金上的鍵結比吸附在純Pt (111)表面上都要來的弱。

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