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氧化鋅薄膜原子層沉積之研究
ZnO Films Prepared by Atomic Layer Deposition
劉光璧(Kuang-Pi Liu)
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嚴國藝(Kuo-Yi Yen)
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羅展興(Alfred Lo)
《真空科技》
23卷2期
(2010/06)
Pp. 56-61
https://doi.org/10.29808/JVSROC.201006.0010
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原子層沉積
;
氧化鋅
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Atomic Layer Deposition
;
Zinc Oxide
延伸閱讀
Wu, M. K. (2007).
利用原子層沉積技術成長氧化鋅及其光電性質之研究
[master's thesis, National Taiwan University]. Airiti Library. https://doi.org/10.6342/NTU.2007.02725
陳又銘(2013)。
以不同製備方式沉積氧化鋅薄膜之特性研究
〔碩士論文,中原大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6840/cycu201300379
Cheng, C. Y. (2022).
以原子/分子層沉積之氧化鋅/高分子超晶格薄膜熱電性質研究
[master's thesis, National Taiwan University]. Airiti Library. https://doi.org/10.6342/NTU202203863
黎駿樺(2015)。
氧化銦鎵鋅薄膜之結晶性探討
〔碩士論文,中原大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6840/CYCU.2015.00523
陳冠宇、李欣縈、李清庭(2010)。
High Quality ZnO Films Prepared by Atomic Layer Deposition and Its Application in Device Construction
。
真空科技
,
23
(2),50-55。https://doi.org/10.29808/JVSROC.201006.0009
國際替代計量
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