以雙靶式交流濺鍍機濺射多樣光學濾光片

A Study of Manufacturing Versatile Optical Filters Using Dual-Target AC Sputter

吳中暄(Chung-Hsuan Wu)

指導教授 ： 林啟瑞

國立臺北科技大學/機電學院/機電整合研究所/碩士(2006年)

摘要

光學薄膜鍍製技術為現今光學鏡片不可或缺之ㄧ項重要技術，其基本上是由高低折射率的光學薄膜互相搭配而成，藉由膜層間的干涉作用而達到特定用途，例如可以鍍製抗反射膜增加光學鏡片之穿透率，鍍製紅外線截止濾光片過濾紅外線，使數位相機的影像更純淨，不受到紅外線的干擾。而國內現今鍍膜廠大部分都使用蒸鍍機台來鍍製光學薄膜。而日商Shincron 所設計RAS-1100雙靶式交流濺鍍機，採用以計算時間的方式來控制膜厚，此一方法在許多的研究中認為是會有極大的誤差，無法很良好的控制膜層厚度及光譜，但是此一雙靶式交流濺鍍機卻可以使用時間來控制膜厚，而達到很精準的結果。因此本研究採用雙靶式交流濺鍍機鍍製光學薄膜，膜層設計使用Essential Macleod 光學薄膜計算軟體，來製作紅外線截止濾光片等反射式濾光片，而鍍製出來的光學濾光片光譜，可以和設計值非常接近，可以達到設計及所求的目的，且以此機台所鍍製出來的薄膜附著性相當良好，經過環境試驗後，光譜依然穩定未漂移，且在以膠帶黏貼後撕下，也未發生脫膜的現象。此外其濺鍍速率快，可以以高效率量產光學濾光片。

關鍵字

雙靶式交流濺鍍機 ； 反射式濾光片

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無資料

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Dua-Targets AC Sputter ； Reflecting optical filter

參考文獻

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