以田口方法改善彩色濾光片之顯影製程問題

Application of Taguchi Methods to Improve Color Filter Development Process Problem

李世明(Shih-Ming Lee)

指導教授 ： 張百棧

元智大學/工程學院/工業工程與管理學系/碩士(2004年)

摘要

在韓國、台灣、日本三強競爭的液晶平面顯示器市場中，隨著基板尺寸增加，彩色濾光片在製程中立即面臨顏料光阻塗佈均勻性的困難、大面積高速塗佈技術障礙及色彩飽和度等問題；再加上基板尺寸放大後，導致各設備生產製程參數複雜，使得生產良率不易提高，因此提高彩色濾光片品質為各家廠商所面臨的問題。

彩色濾光片製造過程中，玻璃基板需至少經過五次的洗淨、光阻塗佈、預烘烤、曝光、顯影及後烘烤的黃光製程，在顯影製程(Development Process)中最重要的是確保所設計的光阻圖案能精準的留下,並控制CD (Critical Dimension)值的均勻度能夠達到最佳的效果。

針對顯影製程的問題，本研究將針對彩色濾光片黑色矩陣(Black Matrix, BM)製程中，開口CD值之均勻度(Uniformity)作為研究個案，以田口方法進行實驗，經實際操作顯影機台並透過特性要因分析法，分析出可能影響開口CD值的控制參數，作為影響的主要因子，接著利用田口所發展的參數設計方法，以開口CD值之均勻度作為品質特性，選擇以L18為主體的實驗配置架構，配合內外直交表的配置，利用望小特性和信號雜音比進行資料分析，找出最佳的設備控制參數組合，最後利用此條件進行實驗確認，並依據SN比、 與R管制圖、Cp及Cpk數據分析來驗證出本實驗結果。

本研究結果顯示，此分析方法可獲得較佳的生產條件，利用此條件開口CD值有較佳的均勻度、Cp及Cpk值，對於提昇彩色濾光片的生產良率有很大的助益。

關鍵字

彩色濾光片 ； 實驗設計 ； 田口方法 ； 參數設計 ； 製程能力

並列摘要

無資料

並列關鍵字

Color Filter ； Design of Experiment ； Taguchi Methods ； Parameter Design ； Process Capability Analysis

參考文獻

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