- 學位論文
利用電漿輔助化學氣相沉積法鍍製四分之一光學厚度氮氧化矽與氮化矽堆疊膜應用於雷射干涉重力波偵測器反射鏡之研究
Study of silicon oxynitride and silicon nitride quarter-wave stack fabricated by a plasma enhanced chemical vapor deposition method for mirror coating of laser interferometer gravitational wave detectors
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延伸閱讀
- 蔡文杰（2020）。以電漿輔助化學氣相沉積法鍍製氮氧化矽薄膜其光學特性與機械特性之探討〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-0209202114064322
- 李世平（2010）。電漿化學氣相沉積技術成長超低應力之紫外光可透性氮化矽薄膜〔碩士論文，國立交通大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6842/NCTU.2010.00550
- 康乃中（2017）。光熱共光路干涉儀系統之設置與電漿輔助化學氣象沉積法沉積之氮化矽薄膜光學吸收研究〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-3004201814415829
- 陳信傑（2017）。以電漿輔助化學氣相沉積法鍍製於矽懸臂之氮化矽其熱退火後對於室溫機械損耗之影響〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-3004201814415930
- 趙廷儒（2022）。Design and analysis of two dimensional reactor model for silicon nitride fabrication by plasma enhanced chemical vapor deposition〔碩士論文，中原大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6840/cycu202201265