- 學位論文
化學氣相沉積法低溫成長多晶碳化矽
Low Temperature Growth Polycrystalline Silicon Carbide by Chemical Vapor Deposition
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延伸閱讀
- 邱如謙（2013）。以微波電漿化學氣相沉積低溫成長碳化矽〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-2511201311343703
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- 陳國良、邱昭彰（2012）。物理氣相傳輸法碳化矽單晶生長數值模擬。中華科技大學學報，(53)，91-104。https://doi.org/10.7095/JCUST.201210.0091
- Haung, C. H. (2004). 射頻電漿輔助化學氣相沉積法合成非晶質含氮碳膜 [master's thesis, Tatung University]. Airiti Library. https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0081-0607200917233757
- 陳鏡宇（2010）。Growth of Solar Graded Single Crystalline Silicon by Crystalline Czochralski Method〔碩士論文，國立虎尾科技大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0028-3008201016142400