我們利用脈衝雷射沉積法(Pulsed Laser Deposition, PLD)來成長[(La0.67Ca0.33MnO3)x/(La0.67Sr0.33MnO3)y]N 的多層膜,分別為成長x:y=1:1及x:y=3:1兩個系列,總厚度固定為2000A,同個系列中改變個別層的厚度,觀察此變化對電性、磁性、結構上的影響。電性上看的出來,當N越大,也就是個別層的厚度減少時,TMI往低溫移動, ρMAX增加,金屬-絕緣的轉變也越劇烈,此與CMR單一材料之薄膜特性相似,也就是低的TMI有較高的ρMAX和急遽的轉變。不同的系列,可以看出當LCMO含量增加時,多層膜的TMI越靠近LCMO的TMI,而兩系列的TMI皆介於LCMO和LSMO的TMI之間。在此嘗試用單層電阻並聯的觀念去模擬多層膜的電阻-溫度曲線,利用單層薄膜的LCMO及LSMO的電阻率以及假設的介面所貢獻的電阻率去擬合,發現在低溫區(<0.7TMI),曲線的趨勢及大小比較符合實驗值,我們認為在高溫時與實際差異很大,是因為每層之間有某種交互作用存在,所以無法當作互相獨立的電阻並聯,至於是何種交互作用,目前無法確定。