本實驗利用SOI晶圓製作出含有奈米通道和閘極結構的元件,使用的半導體製程技術包含光學曝光微影、乾蝕刻、濕蝕刻、電子束微影和熱氧化等。其目的在於研究閘極偏壓是否會造成奈米通道內離子分布的改變。 基於電雙層的理論,我們知道氧化物在水溶液中表面會帶有一層負電荷,而這層負電荷會影響水溶液中的離子分佈,使得奈米通道以陽離子的傳輸為主,因此實驗中試圖施加不同的閘極電壓以改變表面電荷的電位。
為了持續優化網站功能與使用者體驗,本網站將Cookies分析技術用於網站營運、分析和個人化服務之目的。
若您繼續瀏覽本網站,即表示您同意本網站使用Cookies。