透明導電金屬氧化物薄膜的製備及物理性質

Preparation and Characterization of Transparent Conducting Oxide

林盈志(Yin-Chih Lin)

指導教授 ： 蘇雲良

國立清華大學/理學院/物理學系/碩士(2007年)

摘要

透明導電薄膜是一種非常重要的薄膜，主要應用在太陽能電池和液晶銀幕，而銦錫氧化物是其中的主流，本實驗中，採用新型的鍍膜方式－脈衝電弧離子鍍，此種鍍膜方式的特色就是可以提供極高的電流密度，於是可以在室溫的情況下，產生品質優良的薄膜，除此之外，本實驗中藉由改變鍍膜時的偏壓以及鍍膜的靶材成份比，尋求鍍膜參數的最佳化，配合量測工具：四點探針、霍爾量測儀、XRD、原子力顯微鏡、光譜儀、電子顯微鏡進行一系列的檢測，配合基礎原理的角度出發，去解釋光學性質與電學性質，並且提出結論以及未來的可行展望。

關鍵字

銦錫氧化物 ； 脈衝電弧離子鍍

並列摘要

Transparent Conducting thin film is a remarkable thin film, it has application of solar cell and TFT-LCD. Indium Tin oxide is a important material of TCO. In the experiment,We choose new coating method-Pulse Arc deposition (PAD). It generates ultrahigh current desity to improve the quality of thin film at room temperature. Beside, We find the best coating condition by different bias and different target component. And use Four Point Probe,Hall measurement,AFM,SEM,XRD and spectrometer to measure it . We try to account of optical and electric properties , and drew conclustion from experimental data.

並列關鍵字

Indium Tin Oxide ； Pulse Arc Discharge

參考文獻

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