鎳錳鎳三層結構磁性金屬膜之磁力顯微儀成像與磁阻分佈

A Study of Magnet Force Microscopic Images and Magnetoresistivities for Ni-Mn-Ni Triple-layer Magnet-thin-films

邱俊瀚(Chun-Han Chiu)

指導教授 ： 呂助增

國立清華大學/電機資訊學院/光電工程研究所/碩士(2007年)

https://doi.org/10.6843/NTHU.2007.00375

摘要

由於鐵磁性材料有磁區和磁壁的特性，而在薄膜狀態磁區會平行薄膜平面，且當電流垂直通過於磁壁方向為CPW (Current Perpendicular to wall)與電流平行於磁壁方向CIW (Current In Wall)，其不同形式所量出來的電阻值會有所不同。
本篇論文主要是介紹當鐵磁性材料鎳薄膜在中夾一層錳時，對表面磁區狀態有何影響與量出來的磁阻有何變化再與只鍍單一層鎳膜時做比較。而我們主要是用磁控濺鍍機來沈積我們想要的薄膜，和用磁力顯微儀來觀測其表面的磁區現象，再利用加磁場機來改變磁區方向，最後使用四點量測儀器，來量測樣品CIW與CPW的電阻值變化。
在本篇論文的第一章將先簡介整個實驗的動機方向，而第二章將介紹實驗所需要的基本理論。在第三章方面會詳細介紹實驗中所需用到的儀器，如磁控濺鍍機，磁力機，磁力顯微儀，α-Step，四點量測儀等其操作與原理。實驗整個流程將會在第四章裡介紹，而最後的實驗出來結果及討論將在第五章呈現及第六章的結論。

關鍵字

鎳 ； 錳 ； 鐵磁性 ； 三層薄膜 ； 磁力顯微儀 ； 磁區 ； 磁壁 ； 磁阻 ； CIW ； CPW

參考文獻

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