近來非揮發性記憶體於消費性電子扮演著相當重要的角色,對於可攜式電子產品更是不可或缺。現今最普遍的非揮發性記憶體元件為快閃記憶體,但隨著半導體元件的微縮,快閃記憶體的穿隧介電層的厚度將隨之下降,導致漏電現象嚴重而無法滿足記憶功能。「電阻式記憶體 (RRAM)」由於結構簡單,存取速度快,以及省電的特性,被認為是最有可能成為下一個世代的非揮發性記憶體元件之一。本篇論文將研究電阻式記憶體中的導電橋式記憶體 (CBRAM),且展現它在次世代記憶體中的競爭優勢。 本論文中,CBRAM為金屬/絕緣層/金屬(MIM) 多層結構所堆疊而成,其中CMOS製程所常用的銅、鎢分別用來充當上、下電極,銅原子擴散係數較高的介電材料當作固態電解質,為了探討固態電解材料對元件操作的特性差異,本論文中採用了兩種不同的固態電解質材料系統,包括了『二氧化銅/氧化銅』以及『鍺-銻-碲/氧化鉿』。對於『二氧化銅/氧化銅』為固態電解質的元件,此研究是以反應式濺鍍法 ( Reactive sputtering ) 鍍製氧化銅相關材料,並輔以材料分析來了解氧氣比例與所形成的氧化銅之狀態相關性,以及不同材料組成的氧化銅造成電阻率差異。此外,『鍺-銻-碲/氧化鉿』元件是以濺鍍法鍍製完成。實驗量測討論上,第一部份討論『二氧化銅/氧化銅』固態電解質之元件,包含其直流電性、數據儲存持久性以及編輯/抹除耐久性等電性分析。第二部份則討論『鍺-銻-碲/氧化鉿』為固態電解質之高性能CBRAM元件。首先,為驗證CBRAM的高度可微縮性,此元件下電極從「微米」等級被微縮至「奈米」等級;此外,亦包含直流電性(包含不同氧化鉿厚度的比較)、數據儲存持久性以及編輯/抹除耐久性等分析。 結果顯示,以『二氧化銅/氧化銅』為固態電解質的元件,由於氧化銅材料的熱穩定性差,使得元件特性不如以『鍺-銻-碲/氧化鉿』為固態電解質材料的元件。以『鍺-銻-碲/氧化鉿』為固態電解質材料的導電橋式記憶體,有較低的操作電壓、可達到107的高低阻態差、達五小時以上的持久性、良好的微縮性、直流與交流次數的耐久性分析上,皆可達到102次以上。