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  • 學位論文

閘極堆疊介面處理對鰭式電晶體之電特性與可靠度影響研究

Effects of Gate-stack Interfacial Treatment on Electrical and Reliability Characteristics in FinFET

指導教授 : 張廖貴術
本文將於2025/07/28開放下載。若您希望在開放下載時收到通知,可將文章加入收藏

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關鍵字

介面處理 鰭式場效電晶體 退火 氮化

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Si interfacial treatment FinFET annealing nitridation

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