本實驗利用低壓化學氣相沉積系統LPCVD (low pressure chemical vapor deposition)長成矽量子點,藉由調控NH3和Si2H2Cl2氣體流量與沉積時間,將量子點嵌入於氮化矽中(Si3N4)形成三明治結構。並探討是否需經由再退火(post-anneal)而形成量子點。此外,也藉由控制薄膜之厚度調變量子點大小,以及調變薄膜層積數量以達到所需之量子點層數,其大小及層數皆會應用在分析與太陽能元件上。之後利用原子力顯微鏡AFM(atomic force microscopy)掃描樣本表面,比較有無量子點之表面粗糙度差別。利用高解析穿透式電子顯微鏡HRTEM(high resolution transmission electron microscopy)觀測是否有量子點結晶現象,同時估算出量子點大小及其分佈密度。利用GIXRD (grazing incidence X-Ray diffraction)分析薄膜中是否有結晶現象,並利用Scherrer formula計算出量子點平均晶徑變化。最後利用光激螢光(photoluminescence)觀測量子點發放螢光現象,並進而推算出量子點大小及能階分裂狀態。 最後將矽量子點應用至太陽能電池中,並量測其效率(efficiency)與外部量子效應EQE(external quantum efficiency),並討論為何量子點太陽能電池效率未能提升。(量子點太陽能電池效率0.7%,無量子點則為6.9%)。