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學位論文
玻璃深蝕刻技術開發應用於複合量子點合成之微反應晶片製作
Development of deep glass-etching technology for fabricating a microreactor of synthesizing composite quantum dots
鍾武雄(Chung Wu Hsung)
指導教授 :
程金保
;
謝佑聖
國立臺灣師範大學/科技學院/機電科技研究所/碩士(2005年)
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微反應晶片
;
側蝕現象
;
複合量子點
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microreactor
;
lateral underetching ratio
;
compound quantum dots
延伸閱讀
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玻璃基複合材料應用於選擇性雷射熔融積層製造之研究
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精密玻璃模造相關技術於光學元件之應用與研究
〔博士論文,國立交通大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6842/NCTU.2011.01130
湯喻翔、蕭銘華、游智勝(2016)。
感應耦合電漿離子蝕刻技術應用於3D IC玻璃穿孔導線封裝研究
。
科儀新知
,
(209),67-74。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=10195440-201612-201612270043-201612270043-67-74
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The luminescent characteristics of metal-oxide-semiconductor structure with Germanium quantum dots
〔碩士論文,國立臺灣大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6342/NTU.2006.00767
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Optical Properties of Compound Semiconductor Quantum Dots
〔博士論文,國立臺灣師範大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0021-2004200712200883
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