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  • 學位論文

從製程特性的觀點探討生產過程中SPC管制圖監控運用的適切性 -- 以Wafer Level 封裝公司為例

指導教授 : 賀全慶 何應欽
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摘要


中文摘要 業界對SPC 的使用,不再是困擾著如何把龐大的監控資料,加以收集整理轉換成有用的資訊,目前的坊間套裝軟體搭配著自動化的資料收集技術,已經讓這種過去製造過程龐大的資料收集及處理夢魘降至最低,而目前企業在內部所推行的品質系統如ISO 9001、QS 9000、TS16949等品質系統,早已將企業該如何將有系統的導入SPC 建構了一套可遵循及套用的系統。但僅管有著有完善的SPC導入指導方針,但實際從事製程管制作業的人都知道,問題不在於導入的方法,而是在於通用的系統,並沒有告訴實際從事製程管制作業著,如何選擇適當的管制工具。業界目前最常用的管制方法仍是蕭華特管制圖,搭配著補充的判圖原則來作製程管制,不管其中仍存在著微量的型一與型二誤差,純學界追求更的實際精準的ARL判斷管制圖誤判機率的法則下所推薦的修正或調整型管制圖,因成本及學理的相對艱深程度,業界可能在短期間內仍然無法全面接受使用,簡易的蕭華特管制圖目前仍是業界公認的主流。但實際作業中,因為製程作業的特性不同,不能單單使用一般的管制圖選擇原則加以判斷應該用拿一種管制圖來管制(計數值,計量值,抽樣大小三者並不足以判斷選用原則),有時後其它的統計技術也許比管制圖更簡潔適用,端賴其至作業特性而言。 過去來自實務界具實際作業經驗者的研究,在SPC方面多半探索如何將SPC 有系統的導入公司中,但如何依據製程及產品的特性選用適當的統計工具卻沒有深入去探討。讓這個SPC 運用上的最重點處,反而被遺忘,未能讓業界有所參考,實為可惜。本研究藉晶圓級封裝X公司的製程為例,針對作業過程中,製程對蕭華特管制圖及CUSUM、EWMA、EPC、最大最小值管制圖、製程相關型資料的監控—殘差概念、集群分析等統計手法或工具,如何依其製程或產品特性的做適當的選用做舉例,希望能對業界有所助益。

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CUSUM EWMA EPC

參考文獻


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