以低溫常壓電漿對銅基材料精微拋光可行性之研究

Feasibility Study of Low-Temperature Atmospheric-Pressure Plasma Used for Precision Polishing of Copper-based Materials

郭垣昌(Guo Yuan-Chang)

指導教授 ： 陳晧隆

國立屏東科技大學/工學院/機械工程系所/碩士(2020年)

https://doi.org/10.6346/NPUST202000463

摘要

無資料

關鍵字

常壓電漿 ； 精微拋光 ； 銅基材料

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無資料

並列關鍵字

Low-Temperature Plasma ； Precsion Polishing ； Copper-based Materials

參考文獻

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