光子晶體簡述－(Part Ⅱ)：製備方法

Introduction to Photonic Crystals-(Part Ⅱ): Fabrication Methods

黃承彬(Chen-Bin Huang)

《光學工程》 79期 (2002/09) Pp. 101-108

https://doi.org/10.30011/OE.200209.0012

摘要

本文針對光子晶體的製備方式做了一個概略性的介紹。在分類上依照光子晶體維度上作為製程方法粗分的依據，把一維與二維光予晶體的製程視為一個群組，而將三維光子晶體獨立出來介紹其製程方式。本文對一維與二維光子晶體製程的部分針對圖形轉換分別介紹了光學顯影、電子束微影、以及奈米壓印技術。而在三維光子晶體的部分則分別介紹Yablonovite、晶圓接合法、化學機械拋光法、化學自組法等製程。

關鍵字

光子晶體 ； 電子束微影 ； 化學自組法

並列摘要

In this letter, various fabrication methods are introduced for the makings of photonic crystals. These methods are divided into two categories: (1D, 2D) and 3D fabrications, according to the dimensions of the photonic crystals. In the first category, the essence of photolithography, e-beam lithography and nano-imprinting are described, while drilling of Yablonovite, CMP, wafer-fusion and colloidal self-assembly methods are introduced in the 3D photonic crystal fabrications.

並列關鍵字

photonic crystal ； photonic band-gap ； photonic defects