利用間質隔離法研究CS2與Cl2在para-H2間質中的雷射光解反應

Reactions between CS2 and Cl2 in para-H2 after Photoirradiation upon Matrix Isolation Method

黃瓊緯(Chiung-Wei Huang)

指導教授 ： 李遠鵬

國立交通大學/理學院/應用化學系所/碩士(2009年)

https://doi.org/10.6842/NCTU.2009.00812

摘要

本論文利用低溫間質隔離技術搭配霍氏轉換紅外光譜儀（FTIR）研究CS2與Cl2在para-H2（p-H2）間質中的雷射光解反應。利用p-H2間質的無晶格效應，以340 nm光解Cl2產生的Cl原子和CS2形成ClSCS，接著觀察到此產物在355 nm光解光源時如預期地減少，並以34S和13C同位素取代實驗及理論計算的配合鑑定此分子的ν1振動模吸收頻率。由355 nm造成的光解產物可再經由不同反應途徑形成其他產物，如本實驗也觀察到ClCS和trans-Cl2CS2。另外，cis-Cl2CS2只有在以308 nm雷射光解樣品間質時生成。

關鍵字

氯氣 ； 二硫化碳 ； 間質隔離 ； 紅外吸收光譜

並列摘要

無資料

並列關鍵字

chlorine ； carbon disulfide ； matrix isolation ； infrared spectra

參考文獻

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