- 學位論文
化合式石墨烯研磨液對碳化矽晶圓化學機械研磨之分析
Chemical Combination of Graphene/Polyurethane Slurry for Advanced Chemical Mechanical Polishing of Single Crystalline SiC Wafers
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延伸閱讀
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- 蔡明義、陳建勳（2013）。奈米鑽石石墨研磨墊應用於化學機械研磨移除晶圓氧化層特性之研究。技術學刊，28(4)，235-241。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=10123407-201312-201312230023-201312230023-235-241
- 戴敬耘（2021）。機械化學磨削加工單晶碳化矽之研究〔碩士論文，淡江大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0002-0808202123085400
- 劉子謙（2018）。機械化學研磨單晶碳化矽之研究〔碩士論文，淡江大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0002-0503201810344400
- Lin, Z. C., Luo, P. X., & Chen, W. L. (2022). Considering Different Temperatures and Volume Concentrations of Slurry to Esitablish Simulation and Regression Analysis Model of Abrasive Removal Depth of Silicon Wafer for Chemical Mechanical Polishing. 中國機械工程學刊, 43(5), 399-410. https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=02579731-202210-202211160005-202211160005-399-410