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原子層沉積技術在奈米製程之應用
Application of Atomic Layer Deposition on Template-Directed Growth of Nanostructures
摘要
原子層沉積技術目前已經廣泛地應用在半導體產業，由於該項技術具有極佳的成長厚度控制性、階梯覆蓋性與大面積均勻性，因此已逐漸地應用在奈米材料的製作與表面改質。在本文中筆者除了介紹原子層沉積技術的原理，並將依照奈米模板材料種類說明原子層沉積技術在奈米製程之應用，以及改良傳統光電元件之實例。
關鍵字
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Atomic layer deposition (ALD) is widely applied in semiconductor industry due to excellent film thickness control, step coverage and large-area uniformity. Recently, more and more efforts have been put on the applications of ALD on preparation or surface modification of nanostructures. In this article, the concept of ALD will be given first, followed by the preparations of nanostructures by using ALD with different templates. Applications of ALD on field emitter, photonic crystal device and solar cell are also elucidated.
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無資料延伸閱讀
- 龍俊名（2014）。原子層沉積技術與奈米結構應用在矽晶太陽能電池抗反射層之研究〔碩士論文，國立臺灣大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6342/NTU.2014.11124
- 陳詩婷、謝洪斌、吳治宇、劉定宇、陳賢燁（2018）。利用選擇性氣相沉積技術製備表面功能性奈米結構。化工，65(5)，19-24。https://doi.org/10.29803/CE.201810_65(5).0004
- Hom, Z. M. (2010). 原子層沈積技術之奈米複合阻氣薄膜研究 [master's thesis, National Taiwan University]. Airiti Library. https://doi.org/10.6342/NTU.2010.01905
- Sun, W. C. (2011). 原子層沉積技術應用於奈米柱陣列與奈米粒子及其光電性質之研究 [master's thesis, National Taiwan University]. Airiti Library. https://doi.org/10.6342/NTU.2011.10853
- Yeh, Y. C. (2010). Application of Atomic Layer Deposition on ZnO Nanorod Arrays [master's thesis, National Taiwan University]. Airiti Library. https://doi.org/10.6342/NTU.2010.03295