被引用紀錄
王誠華（2009）。製備高比表面積四氧化三錳粉末之研究〔碩士論文，國立臺北科技大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0006-0707200902401200
延伸閱讀
- 林彥甫（2014）。以直流磁控濺鍍法製備氧化鋅鎵薄膜之特性研究〔碩士論文，國立臺北科技大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6841/NTUT.2014.00873
- 王聖文（2012）。磁控濺鍍法製備摻銅氧化鋅薄膜之研究〔碩士論文，國立臺北科技大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0006-1708201213105500
- 蕭宇尊、梁智翔、黃啟祥（2008）。動電位陽極沉積法製備錳氧化物薄膜及其擬電容行為。鑛冶：中國鑛冶工程學會會刊，52(1)，69-74。https://doi.org/10.30069/MM.200803_52(1).0005
- 李欣縈、林詠濠、謝文明、李清庭（2012）。以射頻磁控式共濺鍍系統製作氧化鋅基薄膜電晶體之特性研究。真空科技，25(1)，40-46。https://doi.org/10.29808/JVSROC.201203.0005