摘要
離子束輔助熱阻舟蒸鍍(IAD)MgF2薄膜是目前使用率相當高、成效好的方式，使用氬氣(Ar)做為工作氣體是IAD最常見的選擇。然而，使用Ar做為工作氣體雖可達到改善膜質的目的，卻無法避免氬原子殘留於薄膜中，也無法在輔助蒸鍍過程中，提供氟原子以提升氟化鎂薄膜的品質。因此，尋求一種工作氣體既可達到離子輔助蒸鍍的功效，亦可提升薄膜品質便成為當務之急，而六氟化硫(SF6)就是一種最佳的選擇。從本研究中發現SF6氣體在IAD的過程中會提供大量的氟離子(F(上標 -))，由於F(上標 -)的增加不但可以補足MgF2薄膜中F(上標 -)的損失，還可降低膜層中雜質的生成。從光學性質上做比較，發現使用SF6的樣品略優於Ar氣體的樣品。從XPS光譜分析做討論，使用SF6的樣品不但沒有硫原子殘留於膜層中，在Mg 2p，F 1s，C 1s，and O1s的成分上做比較，使用SF6當作工作氣體的樣品明顯都優於Ar氣體的樣品，由此足以佐證使用SF6當作離子束輔助熱阻舟蒸鍍MgF2薄膜的工作氣體是最佳的選擇。
延伸閱讀
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