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不同靶材於高功率脈衝磁控濺鍍技術之電性分析
The Electrical Analysis of Different Targets in High Power Impulse Magnetron Sputtering Technique
摘要
高功率脈衝磁控濺鍍技術(High Power Impulse Magnetron Sputtering, HiPIMS)可提供具有高附著性、高均勻性、高緻密度之薄膜，主要的原因為透過脈衝電源的設計，使得在＜10%的佔空比(Duty Cycle)下，可於極短的脈衝開啟時間提供極高的瞬間電流，使得電漿密度大幅提高，單位面積功率密度高達kW/cm^3以上，因此產生了具有高離化率之電漿。然而不同靶材材料特性皆不同，而在HiPIMS技術中，不同的靶材對製程中靶材電壓與電流之影響極為重要，因此，本研究挑選六種靶材鈦、鉻、銅、鉬、鎢、碳靶，利用衰減器、探棒、電流勾錶結合示波器，量測不同靶材於高功率脈衝磁控濺鍍技術中的瞬間電流、瞬間電壓以及瞬間功率密度。
延伸閱讀
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