當製成技術不斷的演進,靜態隨機存取記憶體電路設計會著重於低電壓和高速的目標去設計。然而,對於低電壓記憶體電路設計,寫入失敗和讀取干擾的問題會限制住傳統6電晶體(6T)靜態隨機存取記憶體的最低操作電壓,因此才需要去設計良好的寫入能力跟讀取能力的記憶體胞。 在此篇論文中,我們提出新穎單電源8電晶體(8T)靜態隨機存取記憶體。8T隨機存取記憶體是利用不同的電壓偏壓來供給記憶體胞,此設計可以用來幫助資料成功寫入記憶體胞。而8T隨機存取記憶體的電路結構也採用位元線來供給記憶體胞電壓。另外,為了提高8T靜態隨機存取記憶體讀取的穩定性,我們也提出提高位元線的電路設計來配合應用在8T隨機存取記憶體上。提高位元線相當於提高8T隨機存取記憶體的供給電壓,進而來改善讀取靜態雜訊邊界。利用提高位元線電路設計與傳統6T隨機存取記憶體比較,可以改善19.7%讀取靜態雜訊邊界在供給電壓為0.5V時。為了設計在奈米製成技術和低功率下,我們也採用了分割位元線和分割位址線架構來實現我們的晶片設計,利用分割位元線和分割位址線架構,可以分別增快寫入和讀取的速度。更進一步,我們用45奈米CMOS技術製作39Kb靜態隨機存取記憶體晶片,並且量測出8T靜態隨機存取記憶體的最低供給電壓低於6T靜態隨機存取記憶體的最低供給電壓210mV。
Write failure and read disturb limited the minimum operation voltage (VDDmin) of SRAM. We proposed a single supply 8-transistor SRAM cell with improved write margin (WM) and read-static noise margin (RSNM) to achieve low operation voltage.The proposed 8T SRAM cell employ differential data-aware supply voltage, which is supplied by a bitline pair, to enlarge its write margin. In addition, a bitline-boost scheme is proposed to improve read stability of the proposed 8T cell. Two 39Kb SRAM macros, 6T and proposed 8T, were fabricated using a 45nm CMOS technology. The measured VDDmin of our 8T SRAM macro is 210mV lower than that of 6T SRAM macro.