大面積並聯式電感耦合電漿源之特性量測

Measurement of Plasma Characteristics of the Large Area Parallel Inductively-Coupled Plasma Source

林偉智(Wei-Chih Lin)

指導教授 ： 寇崇善

國立清華大學/理學院/物理學系/碩士(2009年)

摘要

電漿的應用相當廣泛，在各種領域中，包括半導體產業、光電產業與太陽能產業等。而且隨著需求的不斷增加，製程設備也需要不斷的擴大，此時大面積的電漿設備便成為關鍵。其中能產生高密度電漿的電感耦合電漿源已成為大面積電漿源運用在製程上重要的方式。本研究目的是探討並聯式電感耦合的方法來產生大面積電漿。有別於以往大面積平面式電感耦合電漿源須要大尺寸的石英窗來隔絕真空與大氣，本實驗架設利用石英管構成大尺寸石英板所帶來的工程上的製作問題，再加上我們採取並聯的方式連接感應線圈，很容易將電漿面積scale-up。
本研究之實驗氣體為氬氣(Ar)，真空腔體大小720mm×420mm×370mm。透過Langmuir probe 的量測，在不同的變數下分析電漿產生區域的基本特性與電漿分佈。有效電漿面積為560mm×350mm，其中最高的電漿密度超過1012cm-3，均勻度在±10%。

關鍵字

並聯式電感耦合電漿源 ； 電感耦合電漿源 ； 大面積

並列摘要

無資料

並列關鍵字

Parallel Inductively-Coupled Plasma ； ICP Plasma Source ； Large Area

參考文獻

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