內置式與外置式平面感應線圈之電漿特性量測

Measurement of Plasma Characteristics in Internal and External Planar Coil

劉訓成(Hsun-Cheng Liu)

指導教授 ： 寇崇善

國立清華大學/理學院/物理學系/碩士(2008年)

摘要

電漿技術在半導體業與顯示面板製造業中使用已相當普及，而平面式電感耦合電漿源所能產生的大面積的電漿源可適用於不斷scale-up的晶圓與玻璃基板，而在製程平面上也比螺旋式電感耦合電漿源的電漿均勻性更佳。本研究主要利用平面式的感應線圈，由感應線圈約60cm*30cm的面積下，能產生均勻的大面積電漿；實驗主要試驗氣體為Ar，在不同的Power與氣壓條件下，以Langmuir probe量測電漿產生區內電漿的基本特性與電漿分布均勻性。此外，實驗將感應線圈置放於真空腔體內部（內置式ICP）產生電漿與置放真空腔體外部（外置式ICP）透過石英介電窗產生電漿，比較以這兩種方式產生電漿的優劣情形。

關鍵字

平面式感應耦合電漿

並列摘要

無資料

並列關鍵字

ICP

參考文獻

[1] J.H. Keller,Plasma Source Sci. Technol. 5 p166 1996

[2] J Hopwood, Plasma Source Sci. Technol 1 p109 1992

[6] Huddlestone, Richard H., Plasma diagnostic techniques, New York,Academic Press,1965

[9] Alfred Grill,Cold Plasma in Materials Fabrication,New York, IEEE Press,1994

[10] V.A. Godyak,R.B. Piejak and B.M. Alexandrovich,Plasma Sources Sci. Technol. ,1 p36 1992