- 學位論文
以反應式直流濺鍍法製備AlCrNbSiTa 高熵氮化物薄膜及其性質探討
Study on AlCrNbSiTa Nitride Films Deposited by Reactive DC Sputtering
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張境芳（2013）。Al-Cr-Nb-Si-Ta高熵氮化膜之開發研究〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-2511201311343600
延伸閱讀
- 蔡佳凌（2014）。反應式直流磁控濺鍍法製備 (Al,Cr,Nb,Si,B,C)100-xNx 高熵薄膜之研究〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-2912201413530938
- 李俊毅（2012）。以直流脈衝電漿化學氣相沉積法蒸鍍DLC薄膜於氮氧化處理AISI H13工具鋼之研究〔碩士論文，國立臺北科技大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6841/NTUT.2012.00567
- 張世賢、顏士紘、劉沖明、吳韋辰、莊展宇、黃麒榕（2016）。利用直流脈衝電漿化學氣相沉積法於不同工作週期下蒸鍍DLC薄膜於氮氧化處理ASP60高速鋼之研究。鑛冶：中國鑛冶工程學會會刊，60(1)，91-99。https://doi.org/10.30069/MM.201603_60(1).0008
- 詹啟澔（2021）。利用離子束濺鍍法及基板加熱系統鍍製氮化矽薄膜及其材料特性〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-0203202211553317
- 黃琇郁（2015）。Development of AlCrNbSiTi/(AlCrNbSiTi)50N50 multilayer films deposited by sputtering〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-0312201510273877