利用離子束濺鍍法及基板加熱系統鍍製氮化矽薄膜及其材料特性

Study of the properties of the silicon nitride thin films deposited by ion beam sputter method with substrate heating

詹啟澔(Chi-Hao Chan)

指導教授 ： 趙煦

國立清華大學/電機資訊學院/光電工程研究所/碩士(2021年)

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關鍵字

離子束濺鍍法 ； 氮化矽 ； 基板加熱系統 ； 氮氫鍵 ； 矽懸鍵 ； 金屬汙染物 ； 光學吸收

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Ion beam sputter ； Silicon nitride ； Substrate heating ； N-H bonds ； Silicon dangling bonds ； metal contaminants ； optical absorption

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