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反應式直流磁控濺鍍法製備 (Al,Cr,Nb,Si,B,C)100-xNx 高熵薄膜之研究
Study on High-entropy Nitride Films of (Al,Cr,Nb,Si,B,C)100-xNx by DC Reactive Magnetron Sputtering
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無資料延伸閱讀
- 王孟琪（2019）。反應式射頻磁控濺鍍法製備 AlCrNbSiTi 高熵氮化物薄膜及其性質之研究〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-0206202016165072
- 賴思維（2006）。以反應式直流濺鍍法製備AlBCrSiTi高熵氮化物薄膜及其性質探討〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-1303200709302352
- 曾思蒨（2012）。以反應式直流濺鍍法製備AlCrNbSiTa 高熵氮化物薄膜及其性質探討〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-2002201315264758
- 林彥宏（2007）。利用射頻磁控濺鍍法共鍍AlxCrNbTaTiZr高熵合金氮化物薄膜及其性質探討〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-1411200715142034
- 管金彥（2017）。Optical Properties of different Ar:N_2 AlN Thin Film by DC reactive Magnetron Sputtering System〔碩士論文，中原大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6840/cycu201700638