運用實驗計畫法改善彩色濾光片黑色矩陣製程白欠陷之研究

Using Design Of Experiment Approach to Improve BM lost Ratio of Color Filter Black Matrix Process

盧嘉隆(Chia-Lung Lu)

指導教授 ： 溫武義

中原大學/工學院/電子工程研究所/碩士(2010年)

https://doi.org/10.6840/cycu201000916

摘要

彩色濾光片(CF , Color Filter)是TFT-LCD中最重要的關鍵零組件，由於是一片相等大小的彩色濾光片配對一片TFT array製成LCD面板，因此彩色濾光器品質好壞對LCD色彩的顯現有決定性的影響。彩色濾光片黑色矩陣(BM , Black Matrix)製程在生產過程中會因為白欠陷(BM lost)影響產品良率，為了降低因為BM lost造成報廢影響到TFT-LCD的生產成本，本研究利用實驗計畫法(DOE , Design Of Experiment)偷工與加料的精神找出造成黑色矩陣白欠陷的顯著因子，再進一步找出降低黑色矩陣白欠陷的最佳製程參數。以實驗計劃法專案管理的流程進行改善，其結果顯示彩色濾光片的關鍵製程有明顯改善，且最佳條件組合不但使不良率降低，品質和製程能力提升，且使製程更加穩定。

關鍵字

彩色濾光片 ； 黑色矩陣 ； 實驗計劃法

並列摘要

Color filter (CF) is one of the most essential materials in a TFT-LCD Panel. Since the size of color filter and TFT array must be identical for the production of the panel. Therefore, the quality of Color Filter will be affect the overall quality assurance of the LCD panel. Black matrix (BM) process of color filter will reduce the yield because of the presence of defects of BM lost. To reduce the scrap of BM lost that affects the cost of TFT-LCD, we used Design of Experiment (DOE) method to identify significant factors that cause BM lost. Further, we obtained the optimum processing parameters from the experimental results to reduce BM lost. It has been found that using the DOE approach with the optimum parameters would greatly improve both the processing capability of CF manufacturing and the conforming rate of the color image in display.

並列關鍵字

Color Filter ； Black Matrix ； DoE

參考文獻

[2] 陳彥任，“薄膜電晶體液晶顯示器產線中破片檢測及欠陷分析”，碩士論文，中原大學機械工程研究所，2008年。

[5] 李銘周，“薄膜電晶體液晶顯示器線中欠陷檢查之分析與分類”，碩士論文，中原大學機械工程研究所，2008年。

[8] 魏仲立，“ZAO 薄膜應用於液晶顯示器彩色濾光片之研究”，碩士論文，中原大學電子工程研究所，2007年。

[13] 陳韋志，“液晶平面顯示器關鍵零組件彩色濾光片缺陷檢測及分析”，碩士論文，中原大學機械工程研究所，2008年。

[16] 丁志華、戴寶通，「田口實驗計畫法簡介(一) 」，國家毫微米元件實驗室，毫微米通訊第八卷第三期. 2004年。