創新掀離式圖案化技術

侯淵庭(Yuan-Ting Hou)

指導教授 ： 鄭榮偉

國立中正大學/工學院/機械工程學系/碩士(2014年)

摘要

本實驗室致力於軟性電子製程開發，其重點在於有機薄膜的圖案化技術，利用我們開發出的劑預潤濕之技術，可以達到均勻塗佈高分子薄膜的目的。在成功塗佈高分子薄膜後，搭配我們開發的掀離上墨概念，可以成功達到10 m、且表面平坦的高分子薄膜圖案化能力。
掀離式圖案化技術是一項重要圖案化技術，目前我們的掀離圖案化法是利用有pattern 的lift-off PDMS 藉由打UV/O 或是氧電漿等表面處理，如此可以增加lift-off PDMS 與高分子薄膜間的吸附功，使protruding 的地方與已塗佈高分子薄膜的平坦的printing PDMS 表面接觸，將高分子薄膜從printing PDMS 上吸到lift-off PDMS 上來達到圖案化的目的。但這種增加lift-off PDMS 與高分子薄膜間吸附功的表面處理卻潛在一些缺點，使得對於大面積與量產的產線上有些不便之處，所以在此提出創新掀離式圖案化技術，免去了表面處理的過程。

關鍵字

掀離式圖案化

參考文獻

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