Faraday Cup Characterisation of Low Pressure RF Plasmas Used in Optical Coating Process

應用在光學鍍膜製之高真空射頻電漿法拉第杯特性

N. A. Morrison ； M. Weiler ； R. Dahl ； M. Razouki ； S. Schlaefer ； M. Hopkins ； R. Lee

《光學工程》 91期 (2005/09) Pp. 25-36

https://doi.org/10.30011/OE.200509.0004

摘要

對於低壓力高真空電漿或離子束之電性描述，可利用離子電流密度與離子能量兩各因子便可闡述電漿或離子束之電性。尤其對表面處理製程中，對離子電流密度與離子能量特性資料取得與監控更是重要。而針對廣泛之惰性與反應性氣體電漿應用，法拉第杯可提供於製程中之離子電流密度與離子能量特性監控量測，此文章中主要使用CCR CEA3法拉第杯量測與描述利用CCR電感耦合電漿源產生之氬氣電漿相對應特性。

關鍵字

電感耦合電漿源 ； 法拉第杯 ； 離子束輔助蒸鍍 ； 射頻 ； 解離率 ； 離子電流密度 ； 離子能量 ； 電漿密度

並列摘要

Both the ion current density and the ion energy are required in order to electrically characterise a low pressure plasma or ion beam. These properties are of importance if close control of a surface treatment process is to be obtained. A Faraday Cup provides the necessary means by which to monitor these plasma properties even in a wide variety of noble and reactive gas plasmas. The work presented in this paper describes the characterisation of an Argon plasma beam produced using a low pressure inductively coupled plasma source using CCR's new Faraday Cup CEA3 Plasma Monitor System.

並列關鍵字

inductively coupled plasma ICP source ； Faraday Cup ； IBAD-Ion Beam Assistant Deposition ； RF-Radio frequency ； Dissociation degree ； Ion Current Density ； Ion Energy ； Plasma Density