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學位論文
熱退火對奈米級氟化鎂薄膜光學、微結構及殘留應力特性之影響
The Influence of Annealing on the Optical, Microstructural and Residual Stress Properties of Nanoscale MgF2 Thin Films
賴子文(TZU-WEN LAI)
指導教授 :
田春林
逢甲大學/資電學院/視光科技碩士在職學位學程/碩士(2017年)
https://doi.org/10.6341/fcu.M0416756
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薄膜
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氟化鎂
;
熱退火
;
殘留應力
;
Twyman-Green干涉儀
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thin film
;
magnesium fluoride
;
thermal annealing
;
residual stress
;
Twyman-Green interferometer
延伸閱讀
Liu, J. H. (2010).
施加電場退火對不同成分之鋯鈦酸鉛薄膜特性的影響
[master's thesis, National Tsing Hua University]. Airiti Library. https://doi.org/10.6843/NTHU.2010.00273
范盛囿(2015)。
退火對低射頻功率所沈積的氧化錫薄膜特性之影響
〔碩士論文,國立暨南國際大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6837/NCNU.2015.00199
曾彥彬(2011)。
UV雷射於氟摻雜氧化錫薄膜退火製程之研究
〔碩士論文,國立交通大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6842/NCTU.2011.00159
Wang, T., Cui, C., Jia, K., & Zhao, L. (2012).
Effects of the Nanostructured Fe-V-Nb Modificators on the Microstructure and Mechanical Properties of Si-Mn Steel
.
Journal of Nanomaterials
,
2012
(), 182-187-021. https://doi.org/10.1155/2012/140405
Lee, W. S., & Fong, F. J. (2008).
Effects of Nanoindentation Depth and Annealing Temperature on Microstructural Evolution of Au/Cr/Si Thin Films
.
中國機械工程學刊
,
29
(4), 281-287. https://doi.org/10.29979/JCSME.200808.0002
國際替代計量
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