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延伸閱讀
- 許家旺（2006）。In-situ電漿表面處理對原子層化學氣相沈積Al2O3、HfO2高介電薄膜應用在奈米尺度世代DRAM影響之研究〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6843/NTHU.2006.00085
- 曾暐升（2015）。利用流體化床形式的電漿輔助化學氣相沉積進行粉體表面之薄膜沉積〔碩士論文，國立臺灣大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6342/NTU.2015.02846
- 張文豪（2010）。以電漿輔助化學氣相沉積法製備超疏水薄膜及形成機制之研究〔碩士論文，中原大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6840/cycu201000580
- 蘇志仁（2006）。Surface modification of COC substrate by oxygen plasma treatment〔碩士論文，國立虎尾科技大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6827/NFU.2006.00012
- 李益維（2003）。Preparation and Plasma Treatment of Porous Silica Thin Film〔碩士論文，中原大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6840/cycu200300432