磁控濺鍍負電荷介質薄膜在矽晶太陽電池上的應用

Applications of Negative Charge Thin Films on Silicon Solar Cells

陳昇暉(Sheng-Hui Chen) ； 許俊哲(Chun-Che Hsu) ； 李正中(Cheng-Chung Lee)

《真空科技》 24卷2期 (2011/06) Pp. 99-105

https://doi.org/10.29808/JVSROC.201106.0013

摘要

負電荷介質薄膜可降低太陽能電池自由載子之表面復合速率，進而提升矽晶太陽能電池轉換效率。本研究以磁控濺鍍製作AlO(下標 x)N(下標 y)薄膜，負電荷累積量達到-2.26×10^12 cm^(-2)，可提升矽晶太陽能電池太陽能轉換效率由15.9%提升到17.3%。

關鍵字

負電荷介質薄膜 ； 矽晶太陽能電池 ； 表面復合速率

並列摘要

Negative charge thin film, AlO(subscript x)N(subscript y) has been fabricated to passivate the surface of crystalline silicon solar cell and reduce the surface recombination velocity. The fabrication of the film was using ion-beam sputtering deposition and following annealing in oxygen ambient. The fixed charge density has increased from 10^11 cm^(-2) to 2.26×10^12 cm^(-2) after annealing. The solar cell efficiency increased from 15.9% to 17.3%.

並列關鍵字

Negative Charge Thin Film ； Crystalline Silicon Solar Cell ； Surface Recombination Velocity