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原子層沉積系統設計概念與應用
Design Concept and Applications of Atomic Layer Deposition System
摘要
原子層沉積技術是以前驅物氣體與基板表面所產生的交互反應進行薄膜成長，其優點為精密的厚度與成分控制與大面積均勻鍍膜，所以被視為半導體製程重要的前瞻技術。在本文中我們將介紹原子層沉積技術的原理、發展及機台設計的概念，並討論在半導體產業、功能性鍍膜與奈米結構鍍膜之應用。
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The atomic layer deposition (ALD) is carried out by using exchange reaction between precursor gas molecules and substrate. Good thickness uniformity in a large area and precise control in thickness and composition make atomic layer deposition become an enabling technology for the semiconductor industry. In this article, principle, development and design concept of ALD system will be given. Applications of ALD on semiconductor device, functional thin film and nanostructure coating will be introduced in detail.
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張祖翰（2010）。氧化鋁/氧化鋅核殼奈米線合成及其結構之研究〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-1901201111404744
延伸閱讀
- 柯忠廷、陳敏璋（2014）。原子層沉積技術之發展與應用。科儀新知，(198)，38-46。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=10195440-201403-201403270011-201403270011-38-46
- 陳品光（2018）。原子層沉積技術簡介。國家奈米元件實驗室奈米通訊，25(3)，29-30。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=1029502x-201809-201810220012-201810220012-29-30
- 柯志忠（2007）。原子層沉積技術與應用。儀科中心簡訊，(79)，10-11。https://doi.org/10.29661/ITRCN.200702.0007
- 章詠湟、陳智、彭智龍（2007）。原子層沉積系統原理及其應用。科儀新知，(159)，33-43。https://doi.org/10.29662/IT.200708.0004
- 柯志忠、卓文浩、林建寶、劉柏亨、陳建宏（2013）。Industrial Applications and Development Prospect of Atomic Layer Deposition。科儀新知，(196)，71-80。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=10195440-201310-201310230008-201310230008-71-80