電感偶合電漿特性分析

Diagnosis of an inductively coupled plasmas

謝永釗(Yung-Chao Hsieh)

指導教授 ： 寇崇善

國立清華大學/理學院/物理學系/碩士(2007年)

https://doi.org/10.6843/NTHU.2007.00176

摘要

電感式偶合電漿源（Inductively coupled plasma source）是目前半導體製造業中被廣泛應用的電漿源系統，而電漿密度與電子溫度更是製程作業中重要的參數，此篇論文的研究主題就是電感偶合電漿的特性分析，以氬氣與氧氣為研究對象，在外加RF功率25W至200W、氣壓1 mTorr至10 mTorr的操作條件下，使用Langmuir probe量測電漿密度與電子溫度；光譜儀量測電漿粒子的放射譜線，並且以理論模型為依據，配合探針量測結果，計算電子溫度；質譜儀量測電漿內離子數目變化情形。透過這三種量測方法將有助於了解電感偶合電漿特性。

關鍵字

電漿 ； 電感偶合電漿 ； 探針 ； 光譜儀 ； 質譜儀

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plasma ； inductively coupled plasma ； Langmuir probe ； oes ； ms

參考文獻

[1] J. Hopwood, Plasma Sources Sci. Technol., Vol 1, 2, p.109, 1992.

[4] F. F. Chen, in Plasma Diagnostic Techniques, Ed. by R. H. Huddlestone and S. L. Leonard (Academic , New York, 1965), p.113-p.199.

[5] J. Felts and E. Lopata, J. Vac. Sci. Technol. A, Vol 6, p.2051, 1988.

[11] H. R. Griem, Plasma Spectroscopy (McGraw-Hill, New York, 1964).

[13] T. I. Cox (personal communication, 1990).