銅鑭氧化物薄膜之製備與性質研究

The study on the preparation and properties of Cu-La-O films

梁韋亭(Wei-Ting Liang)

指導教授 ： 陳國駒

義守大學/理工學院/材料科學與工程學系/碩士(2017年)

摘要

本實驗利用射頻磁控濺鍍系統於石英玻璃沉積銅鑭氧化物薄膜，藉由改變退火條件，探討其對銅鑭氧化物薄膜之性質影響。
實驗結果顯示，使用快速熱退火，退火氣氛為氮氣環境下，在退火溫度為700 ℃時，相為完全的CuLa2O4相；在退火溫度為800℃，相開始由CuLa2O4相轉變為CuLaO2相；在退火溫度927 ℃時， 得到了較強(012)繞射峰的CuLaO2相。
退火溫度為800℃時，退火氣氛為氮氣環境下，電阻率大幅上升，我們推測可能是因為退火溫度為800℃時，相開始由CuLa2O4相轉變為CuLaO2相，才會導致電阻率大幅升高。
在退火溫度927 ℃時，退火氣氛為氮氣環境下，得到了最佳可見光平均穿透率為63.35%及最佳之Figure of merit為3.92×〖10〗^10，從此可得知此實驗參數有最佳之光電性質之薄膜。

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參考文獻

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