溶劑型漿料光成型法之鋪層系統開發

The development of the paving system for Solvent-based Slurry Stereolithograph

陳世傑(Shih-Chieh Chen)

指導教授 ： 汪家昌

國立臺北科技大學/機電學院/機電整合研究所/碩士(2010年)

https://doi.org/10.6841/NTUT.2010.00302

摘要

本研究的主題是「溶劑型漿料光成型法之鋪層系統開發」，主要因為溶劑型漿料只要一經鋪層，就無法回收，而且溶劑型的漿料在使用前也必須置於密閉空間內，否則溶劑揮發喪失流動性便無法鋪層，為了以更經濟的方式供料鋪層，減少漿料的浪費，以及基於環境之限制，因此便有特殊的鋪層系統開發之需求。
溶劑型漿料調製部分是使用0.5μm極細球型粉末的氧化鋁粉，混合甲醇、光硬化樹脂與UV樹脂，經過球磨24小時候取出漿料。在溶劑型漿料之鋪層上，為了實驗的需求，首先建構簡易的實驗用鋪層平台，並以一次供給一層漿料為設計理念，開發了壓差式與下推式兩種供料系統進行測試。經過簡單的鋪層後，結合動態光罩技術投影光罩，成功的製作出簡易試片，表示用溶劑型漿料光成型法成型是可行的。
最後把材料及鋪層系統整合到本研究室李耿芳所建構的快速原型機台來製作實驗用試片，經過燒結後發現其體積收縮率為45.3%，緻密度97.2%，硬度為137.98MPa，強度沒有預期的高，研判主要是因為漿料的調配上還不到最佳化的比例，未來可以在漿料的配方上尋求更好的比例。

關鍵字

溶劑型漿料 ； 快速原型 ； 陶瓷粉末 ； 動態光罩

並列摘要

The purpose of this project is to develop a paving system for Solvent-based Slurry Stereolithograph (3S) rapid prototyping machine. The solvent will be vaporized and change its mechanical property once it is exposed to outside environment. On the other words, the solvent-based slurry cannot be recycled. It is necessary to have a sealed chamber to protect the well made slurry. A new design for this paving system has to be considered to provide a good paving function, better slurry protection, as well as to prevent waste.
The ingredient of the solvent-based slurry used in this study includes Al2O3 ceramic powder, methyl alcohol, and photopolymer. A basic experiment test has been carried out to find the percentage of each ingredient of the slurry for the forming testing. There are three paving method introduce in this study using the resulting slurry. Furthermore, the paving systems have been integrated to the 3S machine and some samples have been fabricated. The results of the samples after the sintering process shown a good mechanical property in which the porosity of the ceramic part is 97.2% and the three point flexural strength is 137.98MPa.

並列關鍵字

Solvent-based Slurry ； Rapid Prototyping ； ceramic powder ； dynamic mask

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