多靶式射頻磁控濺鍍HfO2/SiO2薄膜研究

The study of HfO2/SiO2 thin film by multi-targets RF magnetron sputtering

蔡朝坤(Chao-Kun Tsai)

指導教授 ： 張慎周

崑山科技大學/工程學院/電機工程研究所/碩士(2003年)

https://doi.org/10.6828/KSU.2003.00007

摘要

本論文是利用多靶式射頻磁控濺鍍系統，濺鍍光學薄膜，使用氧化鉿（HfO2）和氧化矽（SiO2）兩種材料的濺鍍，主要探討在不同真空度環境下，波長300 nm ~ 400 nm紫外光波段之薄膜穿透率、折射率和消光係數等光學性質之影響，以及對薄膜之結晶性，微觀結構和表面粗糙度之分析，我們可以得到一最佳薄膜光學性質，根據此性質製鍍單介面及雙介面高穿透率抗反射膜，以提供於紫外光區的光學技術方面之應用。

關鍵字

光學薄膜 ； 磁控濺鍍

並列摘要

The study of HfO2 and SiO2 optical thin films sputtered by multi-targets RF magnetron sputtering system in this thesis. We can see 300 nm ~ 400 nm the change on the optical properties including transmittance、refractive index and extinction coefficient along with mirco correction on structure and surface roughness at different vacuum pressure. We can get optical thin films of better optical properties. Base on this，we sputtered single-side and double-side high transmittance anti-refractive coating for the application on UV optic technique.

並列關鍵字

magentron sputtering ； optic thin film

參考文獻

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